High-resolution synchrotron X-ray reflectivity study of the density of plasma-treated ultra low-k films
High-resolution synchrotron X-ray reflectivity study of the density of plasma-treated ultra low-k films
复制标题
等离子体处理超低 k 薄膜密度的高分辨率同步加速器 X 射线反射率研究
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H. Moser
中科院分区：
文献类型：
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作者：
P. Yang;D. Lu;B. Murthy;H. Moser
