ラポナイト層端面のアルコキシシリル化とポリジメチルシロキサンによる修飾
ラポナイト層端面のアルコキシシリル化とポリジメチルシロキサンによる修飾
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锂皂石层端面的烷氧基硅烷化及聚二甲基硅氧烷改性
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
下嶋敦
中科院分区：
文献类型：
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作者：
片山穂南;彌富昌;小池正和;和田宏明;黒田一幸;下嶋敦
