SU8 resist for low-cost X-ray patterning of high-resolution, high-aspect-ratio MEMS
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DOI：
10.1016/s0026-2692(01)00109-4
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发表时间：
2002-01
影响因子：
2.2
通讯作者：
C. Malek
中科院分区：
文献类型：
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作者：
C. Malek
