Hiroyuki Komeda: "Gas Chemistry Dependence of Si Surface Reaction in a Fluorocarbon Plasma during Contact Hole Etching"Japanese Journal of Applied Physics. 37・3B. 1198-1201 (1998)
Hiroyuki Komeda: "Gas Chemistry Dependence of Si Surface Reaction in a Fluorocarbon Plasma during Contact Hole Etching"Japanese Journal of Applied Physics. 37・3B. 1198-1201 (1998)
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Hiroyuki Komeda：“接触孔蚀刻过程中氟碳等离子体中硅表面反应的气体化学依赖性”日本应用物理学杂志 37・3B（1998）。
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