エピタキシャル成長したHfO2 基強誘電体膜における結晶構造の膜厚依存性
エピタキシャル成長したHfO2 基強誘電体膜における結晶構造の膜厚依存性
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外延生长 HfO2 基铁电薄膜中晶体结构的厚度依赖性
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
舟窪浩
中科院分区：
文献类型：
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作者：
三村和仙;清水荘雄;木口賢紀;赤間章裕;今野豊彦;勝矢良雄;坂田修身;舟窪浩
