Comparative Study of Manufacturing Techniques for Coronagraphic Binary Pupil Masks: Masks on Substrates and Free-Standing Masks
Comparative Study of Manufacturing Techniques for Coronagraphic Binary Pupil Masks: Masks on Substrates and Free-Standing Masks
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冠状二元瞳孔掩模制造技术的比较研究：基底掩模和独立式掩模
DOI：
10.1093/pasj/64.6.123
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发表时间：
2012
影响因子：
2.3
通讯作者：
L. Abe
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
K. Enya;K. Haze;T. Kotani;L. Abe
我们提出了一个比较研究的制造二进制瞳孔掩模日冕观测系外行星。采用了棋盘式掩模设计（一种二元光瞳掩模设计），并且所有掩模都使用相同尺寸的相同图案，以便我们可以比较不同制造方法产生的差异。基板上的掩模具有厚度为0.1/0.2/0.4/0.8/1.6 μ m的铝棋盘图案，其使用光刻和化学工艺在BK 7玻璃、硅和锗基板上构造。由铜和镍制成的厚度为2/5/10/20 μ m的独立式掩模也使用光刻和化学工艺实现，其中包括从用作制造中间步骤的衬底上小心释放。使用可见激光对BK 7玻璃基板上的所有掩模和独立式掩模进行日冕照相实验。BK 7衬底上的掩模、独立铜掩模和独立镍掩模的平均对比度分别为8.4 × 10 - 8 $、1.2 × 10 - 7 $和1.2 × 10 - 7 $。对比度和掩模属性之间没有显著的相关性。高对比度掩模有可能满足地面和空间望远镜在宽波长范围内的日冕仪需求。特别是将其应用于红外空间望远镜SPICA是合适的。
We present a comparative study of the manufacture of binary pupil masks for coronagraphic observations of exoplanets. A checkerboard mask design, a type of binary pupil mask design, was adopted, and identical patterns of the same size were used for all the masks in order that we could compare the differences resulting from the different manufacturing methods. The masks on substrates had aluminum checkerboard patterns with thicknesses of 0.1/0.2/0.4/0.8/1.6$\mu$m constructed on substrates of BK7 glass, silicon, and germanium using photolithography and chemical processes. Free-standing masks made of copper and nickel with thicknesses of 2/5/10/20$\mu$m were also realized using photolithography and chemical processes, which included careful release from the substrate used as an intermediate step in the manufacture. Coronagraphic experiments using a visible laser were carried out for all the masks on BK7 glass substrate and the free-standing masks. The average contrasts were 8.4$\times10^{-8}$, 1.2$\times10^{-7}$, and 1.2$\times10^{-7}$ for the masks on BK7 substrates, the free-standing copper masks, and the free-standing nickel masks, respectively. No significant correlation was concluded between the contrast and the mask properties. The high contrast masks have the potential to cover the needs of coronagraphs for both ground-based and space-borne telescopes over a wide wavelength range. Especially, their application to the infrared space telescope, SPICA, is appropriate.
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高动态范围 SPICA 仪器，用于系外行星日冕观测和凌日系外行星监测
DOI：
10.1117/12.893508
发表时间：
2011
期刊：
Proc.of SPIE
影响因子：
--
作者：
Enya;K.; Abe;L.; Takeuchi;S.; Kotani;T.; Yamamuro;T.
通讯作者：
T.
带棋盘瞳孔掩模的无 AO 日冕仪的高对比度实验
DOI：
--
发表时间：
2008
期刊：
Astronomy and Astrophysics Volume 480, Issue 3
影响因子：
--
作者：
Enya;K.;Abe;L.;Tanaka;S.;Nakagawa;T.;Haze;K.;Sato;T.;Wakayama;T.
通讯作者：
T.
DOI：
--
发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
--
作者：
Haze;K.; Enya;K.; Kotani;T.; Abe;L.; Nakagawa;T.; Aono;K.; Sato;T.; Yamamuro;T.
通讯作者：
T.
用于 SPICA 的中红外高分辨率阶梯光栅光谱仪 (MIRHES)
DOI：
--
发表时间：
2010
期刊：
Proceedings of SPIE 7010
影响因子：
--
作者：
Kobayashi;N.;Sarugaku;Y.;Ikeda Y.;Kawakita H.;Enya K.;Nakagawa T.;Kataza H.;Matsuhara H.;Hirahara Y.;Tokoro H.
通讯作者：
Tokoro H.
使用带有中央障碍物的太空望远镜进行高对比度成像的二元形瞳日冕仪
DOI：
--
发表时间：
2006
期刊：
Publications of the Astronomical Society of Japan Vol.58, No.3
影响因子：
--
作者：
Tanaka;Shinichiro;Enya;Keigo;Abe;Lyu;Nakagawa;Takao; et al.
通讯作者：
Takao; et al.