Sharp and Stable Metal Tips for Helium Ionization at mK Temperatures
Sharp and Stable Metal Tips for Helium Ionization at mK Temperatures
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锋利稳定的金属尖端，用于 mK 温度下的氦电离
DOI：
10.1023/a:1022583729253
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发表时间：
1998
影响因子：
2
通讯作者：
H. Ishimoto
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
A. Golov;H. Ishimoto
我们报道了一种简单可靠的用于液氦场电离的钨尖刻蚀技术。这种尖端通常在400 - 600 V的电压下产生1 - 100 pA的正电流，并且工作数月没有退化。讨论了成功使用这些技巧的一些建议。
We report a simple and reliable technique of etching tungsten tips to be used for field ionization of liquid helium. Such tips routinely yielded a positive current of 1 - 100 pA at a voltage of only 400 - 600 V and worked without degradation for many months. Some suggestions for the successful use of such tips are discussed.