T.Futagami: "Characterization of RF-Enhanced DC Sputtering to deposit Tin-doped Indium Oxide Thin Films." Japanese Journal of Applied Physics,Part1. 37(11). 6210-6214 (1998)
T.Futagami: "Characterization of RF-Enhanced DC Sputtering to deposit Tin-doped Indium Oxide Thin Films." Japanese Journal of Applied Physics,Part1. 37(11). 6210-6214 (1998)
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T.Futagami：“射频增强直流溅射沉积锡掺杂氧化铟薄膜的表征。”
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