大見忠弘: "教習電体、高誘電率膜を徹底利用へ・LSIの付加価値高める基盤技術"日経マイクロデバイス. 184. 170-173 (2000)
大見忠弘: "教習電体、高誘電率膜を徹底利用へ・LSIの付加価値高める基盤技術"日経マイクロデバイス. 184. 170-173 (2000)
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Tadahiro Ohmi：“高介电常数薄膜在教学电气材料中的多重使用 - 提高 LSI 附加值的基础技术” Nikkei Micro Devices 184. 170-173 (2000)。
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