還元窒化法によるc軸配向AlN膜の作製
還元窒化法によるc軸配向AlN膜の作製
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还原氮化法制备c轴取向AlN薄膜
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
中村克仁
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.Tsukada;H.Kobatake;H.Fukuyama;T.Tsukada;H.Kobatake;H.Fukuyama;高橋 翔;小畠秀和;H.Kobatake;I.Minato;H.Fukuyama;H.Fukuyama;H.Kobatake;I.Minato;H.Fukuyama;H.Fukuyama;H.Kobatake;塚田隆夫;杉岡健一;高橋 翔;小畠秀和;福山博之;福山博之;小畠秀和;福山博之;塚田隆夫;H.Fukuyama;H.Kobatake;福山博之;福山博之;H.Kawamura;I.Minato;H.Fukuyama;H.Kawamura;W.Nakao;中村克仁
