Preparation of Cr(N,O) thin films by RF reactive unbalanced magnetron sputtering
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DOI：
10.1016/j.tsf.2011.01.106
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发表时间：
2011-03
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
J. Shirahata;T. Ohori;H. Asami;Tsuneo Suzuki;T. Nakayama;H. Suematsu;Y. Nakajima;K. Niihara
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J. Shirahata;T. Ohori;H. Asami;Tsuneo Suzuki;T. Nakayama;H. Suematsu;Y. Nakajima;K. Niihara
