Design and Optimization of Photomask Based on the Phase Field Model considering Manufacturing, , 2015, 12(8):2951-2961.
Design and Optimization of Photomask Based on the Phase Field Model considering Manufacturing, , 2015, 12(8):2951-2961.
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基于考虑制造的相场模型的光掩模设计与优化，2015，12(8):2951-2961。
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Zhenhua Xiong
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Chungang Zhuang;Zhenhua Xiong
