Cat-CVD法による窒化物半導体の成長
Cat-CVD法による窒化物半導体の成長
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利用 Cat-CVD 法生长氮化物半导体
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
赤羽正志
中科院分区：
文献类型：
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作者：
安井寛治;西山洋;田村和之;深田祐介;黒木雄一郎;末光眞希;伊藤隆;成田克;遠藤哲郎;中澤日出樹;高田雅介;赤羽正志
