K. Sagawa, H. Eda, L. Zhou and J. Shimizu: "Simulation on High Integrity Surface Generation of φ300 Si Wafer with Fixed-abrasive Solution"Proc. Int. Conf. ICPE-10, Yokohama. 441-445 (2001)
K. Sagawa, H. Eda, L. Zhou and J. Shimizu: "Simulation on High Integrity Surface Generation of φ300 Si Wafer with Fixed-abrasive Solution"Proc. Int. Conf. ICPE-10, Yokohama. 441-445 (2001)
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K. Sakawa、H. Eda、L. Zhou 和 J. Shimizu：“使用固定磨料溶液生成 φ300 硅晶片的高完整性表面”Proc. ICPE-10，横滨。 ）
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