Rapid growth of SiGe thin-films by pulsed laser annealing of Al-Ge alloyed pastes on silicon
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通过硅上 Al-Ge 合金浆料的脉冲激光退火快速生长 SiGe 薄膜
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Noritaka Usami
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Takeshi Sato;Satoru Miyamoto;Shota Suzuki;Marwan Dhamrin;Noritaka Usami
