Optical Damage Resistance and Refractive Indices in Near-Stoichiometric MgO-Doped LiNbO_3 : Optics and Quantum Electronics
Optical Damage Resistance and Refractive Indices in Near-Stoichiometric MgO-Doped LiNbO_3 : Optics and Quantum Electronics
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近化学计量 MgO 掺杂 LiNbO_3 的光学损伤抗性和折射率：光学和量子电子学
DOI：
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发表时间：
2002
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Kitamura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Nakamura;S. Higuchi;S. Takekawa;K. Terabe;Y. Furukawa;K. Kitamura
