Investigation on Slurry Flow and Temperature in Polishing Process of Quartz Glass Substrate
Investigation on Slurry Flow and Temperature in Polishing Process of Quartz Glass Substrate
复制标题
石英玻璃基板抛光过程中浆料流量和温度的研究
DOI：
10.20965/ijat.2011.p0195
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Keisuke Suzuki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
P. Khajornrungruang;Nagisa Wada;K. Kimura;R. Yui;Keisuke Suzuki
