Nano-cluster assisted high rate and high yield Si epitaxy
Nano-cluster assisted high rate and high yield Si epitaxy
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纳米团簇辅助高速率高良率硅外延
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
(Invited)
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Kambara;L.W.Chen;S.D. Wu;T. Yoshida;(Invited)
