A study of Cu-growth feature by selective-LPCVD using CuI-precursor
A study of Cu-growth feature by selective-LPCVD using CuI-precursor
复制标题
使用 CuI 前驱体选择性 LPCVD 的 Cu 生长特性研究
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Yusuke Kubota
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Gento Toyoda;Satoshi Yamauchi;Takashi Fuse;Yusuke Kubota
