Study on Gate Stacks in Future Nano-Scaled CMOS using Hard X-Ray Photoelec-tron Spectroscopy
Study on Gate Stacks in Future Nano-Scaled CMOS using Hard X-Ray Photoelec-tron Spectroscopy
复制标题
使用硬 X 射线光电子能谱研究未来纳米级 CMOS 中的栅极堆栈
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T. Hattori
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Zaima;T. Hattori
