Characterization of (11-20) textured ZnO films fabricated by RF magnetron sputtering

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射频磁控溅射制备的 (11-20) 织构 ZnO 薄膜的表征

DOI:
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发表时间:
2004
期刊:
Japanese Journal of Applied Physics Vol.43
影响因子:
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通讯作者:
Otani
Otani
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
Yanagitani;Tomohiro;Nohara;Matsukawa;Watanabe;Otani

文献摘要

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