分子線エピタキシー法によるAlB_2/MgB_2積層構造の作製
分子線エピタキシー法によるAlB_2/MgB_2積層構造の作製
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分子束外延法制备AlB_2/MgB_2叠层结构
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
内藤方夫
中科院分区：
文献类型：
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作者：
石井林太郎;新原佳紘;内藤方夫
