二次イオン質量分析法によるγ-FeNi中のホウ素の拡散プロファイルの測定と拡散係数の評価
二次イオン質量分析法によるγ-FeNi中のホウ素の拡散プロファイルの測定と拡散係数の評価
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利用二次离子质谱法测定硼在 γ-FeNi 中的扩散分布并评估扩散系数
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
鈴木健之
中科院分区：
文献类型：
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作者：
玉井直哉;沼倉宏;仲村龍介;鈴木健之
