セリアスラリーを用いた研磨における化学作用と機械作用のバランスによる4H-SiCのステップ/テラス構造の制御
セリアスラリーを用いた研磨における化学作用と機械作用のバランスによる4H-SiCのステップ/テラス構造の制御
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使用二氧化铈浆料抛光时通过化学作用和机械作用的平衡控制 4H-SiC 的台阶/平台结构
DOI:
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发表时间:
2014
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
山村和也
中科院分区:
文献类型:
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作者:
鄧輝;遠藤勝義;山村和也