光学薄膜の最適設計・成膜技術と膜厚・膜質・光学特性の制御 第15 節 真空アーク蒸着法による光学薄膜の成膜技術と膜質・膜厚の制御
光学薄膜の最適設計・成膜技術と膜厚・膜質・光学特性の制御 第15 節 真空アーク蒸着法による光学薄膜の成膜技術と膜質・膜厚の制御
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光学薄膜的优化设计和沉积技术以及膜厚、膜质和光学性能的控制第十五节真空电弧蒸镀法光学薄膜的沉积技术以及膜质和膜厚的控制
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
他
中科院分区：
文献类型：
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作者：
滝川 浩史;他
