スパッタリング法によるβ-FeSi2薄膜の作製と電気特性評価
スパッタリング法によるβ-FeSi2薄膜の作製と電気特性評価
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溅射法制备β-FeSi2薄膜及电性能评价
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
東 貴彦，服部 哲，寺井慶和
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Shimizu;B. Han;Y. Tu;K. Inoue;and Y. Nagai;東 貴彦，服部 哲，寺井慶和
