EXAFS法によるSi結晶中のMnドーピング層形成過程の研究-シリサイド化の検出-
EXAFS法によるSi結晶中のMnドーピング層形成過程の研究-シリサイド化の検出-
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利用EXAFS方法研究Si晶体中Mn掺杂层的形成过程-硅化物的检测-
DOI:
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发表时间:
2013
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
坂田修身
中科院分区:
文献类型:
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作者:
三木一司;村田晃一;新田清文;宇留賀朋哉;寺田靖子;日塔光一;坂田修身