Immobilization and photoreduction of graphene oxide on hydrogen–terminated silicon
Immobilization and photoreduction of graphene oxide on hydrogen–terminated silicon
复制标题
氧化石墨烯在氢气上的固定化和光还原
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Hiroyuki Sugimura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Sho Kokufu;Yudi Tu;Takashi Ichii;Toru Utsunomiya;Hiroyuki Sugimura
DOI：
10.1021/acs.langmuir.7b01688
发表时间：
2017-10
期刊：
Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
影响因子：
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作者：
Y. Tu;T. Utsunomiya;Sho Kokufu;Masahiro Soga;T. Ichii;H. Sugimura
通讯作者：
Y. Tu;T. Utsunomiya;Sho Kokufu;Masahiro Soga;T. Ichii;H. Sugimura
共价连接到硅的微结构 π 共轭有机单分子层
DOI：
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发表时间：
2003
期刊：
Langmuir 19
影响因子：
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作者：
Hiroyuki Sugimura;Nagahiro Saito;Sun-Hyung Lee;Osamu Takai;H.Sugimura et al.;Y.Wu et al.;N.SAito et al.;L.Hong et al.;L.Hong et al.;L.Hong et al.;N.Saito et al.;N.Saito et al.;N.Nakairi et al.;K.Hayashi et al.;N.Saito et al.
通讯作者：
N.Saito et al.
影响因子：
21.8
作者：
Bagri, Akbar;Mattevi, Cecilia;Shenoy, Vivek B.
通讯作者：
Shenoy, Vivek B.