松英 達也: "アークイオンプレーティング法により形成されたTiN皮膜のX線残留応力測定" 材料. (採択 決定,掲載号は未定).
松英 達也: "アークイオンプレーティング法により形成されたTiN皮膜のX線残留応力測定" 材料. (採択 決定,掲載号は未定).
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Tatsuya Matsuhide：“电弧离子镀法形成的 TiN 薄膜的 X 射线残余应力测量”材料（已接受，出版期待定）。
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