In-situ AFM observation of the deposition process in monomolecular organic layers
In-situ AFM observation of the deposition process in monomolecular organic layers
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单分子有机层沉积过程的原位 AFM 观察
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Y.Miyamoto
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M.Koshino;T.Yaji;A.Scaper;M.Koshino;A.Schaper;T.Yaji;A.Schaper;Y.Kubota;T.Kiyomura;D.Takajo;T.Kiyomura;倉田博基;Y.Kubota;D.Takajo;T.Kiyomura;H.Kurata;Y.Kubota;T.Kiyomura;M.Tsujimoto;M.Koshino;M.Tsujimoto;M.Koshino;M.Tsujimoto;M.Koshino;Y.Yoshioka;M.Koshino;Y.Miyamoto
NTCDA 在弱相互作用基质上的 STM 研究
影响因子：
1.9
作者：
R. Strohmaier;C. Ludwig;J. Petersen;B. Gompf;W. Eisenmenger
通讯作者：
W. Eisenmenger
超薄有机薄膜中分子取向的“操纵”：Ag(111) 上的 NTCDA
影响因子：
1.8
作者：
D. Gador;C. Buchberger;R. Fink;E. Umbach
通讯作者：
E. Umbach
E. Fujiwara：“通过 STM 研究分子对称性和堆积效率对石墨上单分子薄膜外延生长模式的影响：以 2,4,6-Tris(4,5-dimethy1-1,3-dithiol-2) 为例
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影响因子：
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作者：
通讯作者：
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