T.Homma,J.Tsukano,T.Osaka,M.Watanabe,K.Nagai,: "Deposition Mechanism of Trace Metals on Silicon Wafer Surfaces in Ultra Pure Water"Electrochem.Soc.Proc.. Vol2000.No17. 670-676 (2000)
T.Homma,J.Tsukano,T.Osaka,M.Watanabe,K.Nagai,: "Deposition Mechanism of Trace Metals on Silicon Wafer Surfaces in Ultra Pure Water"Electrochem.Soc.Proc.. Vol2000.No17. 670-676 (2000)
复制标题
T.Homma,J.Tsukano,T.Osaka,M.Watanabe,K.Nagai,:“超纯水中硅片表面微量金属的沉积机理”Electrochem.Soc.Proc.. Vol2000.No17。
DOI:
--
复制
发表时间:
--
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
中科院分区:
文献类型:
--
作者: