Y. Hayashi, T. Katoh, H. Ikeda, A. Sakai, S. Zaima, Y. Yasuda: "Application of a two-step growth to the formation of epitaxial CoSi_2 films on Si(100) surfaces : Comparative study using reactive deposition epitaxy"Jpn. J. Appl. Phys.. 40. 269-275 (2001)
Y. Hayashi, T. Katoh, H. Ikeda, A. Sakai, S. Zaima, Y. Yasuda: "Application of a two-step growth to the formation of epitaxial CoSi_2 films on Si(100) surfaces : Comparative study using reactive deposition epitaxy"Jpn. J. Appl. Phys.. 40. 269-275 (2001)
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Y. Hayashi、T. Katoh、H. Ikeda、A. Sakai、S. Zaima、Y. Yasuda：“两步生长在 Si(100) 表面上外延 CoSi_2 薄膜形成中的应用：使用反应性的比较研究
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