Graphoepitaxy of sexithiophene on thermally-oxidized silicon surface with artificial periodic grooves
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六噻吩在人工周期性沟槽热氧化硅表面的图形外延
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and T. Shimada
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Ikeda;K Saiki;K. Tsutsui;T. Edura;Y. Wada;H. Miyazoe;K. Terashima;K. Inaba;T. Mitsunaga;and T. Shimada
