Full-field defect detection and strain mapping at the nanoscale and atomic scale using Moire phase analysis
Full-field defect detection and strain mapping at the nanoscale and atomic scale using Moire phase analysis
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使用莫尔相位分析在纳米级和原子级进行全场缺陷检测和应变绘图
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
津田 浩
中科院分区：
文献类型：
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作者：
王 慶華;李 志遠;津田 浩
