Lattice-polarity and microstructures in AlN films grown on c-Al2O3 (0001) substrates by NH3-free high-temperature MOCVD
Lattice-polarity and microstructures in AlN films grown on c-Al2O3 (0001) substrates by NH3-free high-temperature MOCVD
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无 NH3 高温 MOCVD 在 c-Al2O3 (0001) 衬底上生长的 AlN 薄膜的晶格极性和微观结构
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H. Matsuhata and K. Kojima
中科院分区：
文献类型：
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作者：
X.Q. Shen;H. Matsuhata and K. Kojima
