W.Chen,M.Itoh,他: "Dry Etch Process in Magnetic Neutral Loop Discharge Plasma" Japanese Journal of Applied Physics. 37・1. 332-336 (1998)
W.Chen,M.Itoh,他: "Dry Etch Process in Magnetic Neutral Loop Discharge Plasma" Japanese Journal of Applied Physics. 37・1. 332-336 (1998)
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W.Chen、M.Itoh 等人：“磁中性环路放电等离子体中的干蚀刻工艺”日本应用物理学杂志 37・1（1998 年）。
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