ALD-Al2O3膜を堆積したAlGaInN/AlGaNヘテロ構造におけるMIS界面準位の評価

ALD-Al2O3膜を堆積したAlGaInN/AlGaNヘテロ構造におけるMIS界面準位の評価
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沉积 ALD-Al2O3 薄膜的 AlGaInN/AlGaN 异质结构中 MIS 界面态的评估

DOI:
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发表时间:
2019
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
三好実人
三好実人
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
斉藤 早紀;細見 大樹;古岡 啓太;久保 俊晴;江川 孝志;三好実人

文献摘要

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