Fundamental Properties for Enhanced Etching of Ge Surfaces in Water Assisted by Single Sheets of Reduced Graphene Oxide
Fundamental Properties for Enhanced Etching of Ge Surfaces in Water Assisted by Single Sheets of Reduced Graphene Oxide
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单片还原氧化石墨烯在水中增强蚀刻 Ge 表面的基本特性
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Yamamura and K. Arima
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Hirano;Y. Nakata;H. Yamashita;S. Li;K. Kawai;K. Yamamura and K. Arima
