La-214 thin films under epitaxial strain

La-214 thin films under epitaxial strain
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外延应变下的 La-214 薄膜

DOI:
10.1016/s0921-4534(00)01017-0
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发表时间:
2000
影响因子:
1.7
通讯作者:
A. Matsuda
A. Matsuda
中科院分区:
物理与天体物理4区
文献类型:
--
作者:
H. Sato;A. Tsukada;M. Naito;A. Matsuda

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参考文献

被引文献

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DOI: 10.3389/fgene.2016.00070
发表时间: 2016
影响因子: 3.7
作者:
Whissell PD;Tohyama S;Martin LJ
通讯作者: Martin LJ