H.Nagai, S.Takashima, M.Hiramatsu, M.Hori, T.Goto: "Behavior of atomic radicals and their effects on organic low dielectric constant film etching in high density N_2/H_2 and N_2/NH_3 plasmas"J. Appl. Phys.. 91・5. 2615-2621 (2002)
H.Nagai, S.Takashima, M.Hiramatsu, M.Hori, T.Goto: "Behavior of atomic radicals and their effects on organic low dielectric constant film etching in high density N_2/H_2 and N_2/NH_3 plasmas"J. Appl. Phys.. 91・5. 2615-2621 (2002)
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H.Nagai、S.Takashima、M.Hiramatsu、M.Hori、T.Goto：“高密度 N_2/H_2 和 N_2/NH_3 等离子体中原子自由基的行为及其对有机低介电常数薄膜蚀刻的影响”J。物理学.. 91・5. 2615-2621 (2002)
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