Passivation effect of SiOx interfacial layer in MoOx hole selective contact
Passivation effect of SiOx interfacial layer in MoOx hole selective contact
复制标题
MoOx空穴选择性接触中SiOx界面层的钝化效应
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Kazuyoshi Nakada
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Katayama Tsukasa;Yasui Shintaro;Hamasaki Yosuke;Shiraishi Takahisa;Akama Akihiro;Kiguchi Takenori;Itoh Mitsuru;望月 泰英，赤松 寛文， 熊谷 悠，大場 史康;萩原里香;Kazuyoshi Nakada
