K.Y.Jun, Y.Shimogaki: "Effect of Partial Pressure of TiCl_4 and NH_3 on Chemical Vapor Deposition Titanium Nitride (CVD-TiN) Film Cl Content and Electrical Resistivity"Japanese Journal of Applied Physics. (In press). (2004)
K.Y.Jun, Y.Shimogaki: "Effect of Partial Pressure of TiCl_4 and NH_3 on Chemical Vapor Deposition Titanium Nitride (CVD-TiN) Film Cl Content and Electrical Resistivity"Japanese Journal of Applied Physics. (In press). (2004)
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K.Y.Jun，Y.Shimogaki：“TiCl_4和NH_3的分压对化学气相沉积氮化钛(CVD-TiN)薄膜Cl含量和电阻率的影响”日本应用物理学杂志。
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