R.Nozawa et .al.: "Low temperature polycrystalline silicon formation by nutral reactive species in electron cyclotron resonance SiH_4/H_2 plasma chemical vapor deposition" Proc.of 3rd int.conf.reactive plasmas. 132-133 (1996)
R.Nozawa et .al.: "Low temperature polycrystalline silicon formation by nutral reactive species in electron cyclotron resonance SiH_4/H_2 plasma chemical vapor deposition" Proc.of 3rd int.conf.reactive plasmas. 132-133 (1996)
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R.Nozawa 等人：“电子回旋共振 SiH_4/H_2 等离子体化学气相沉积中的中性活性物质形成低温多晶硅”Proc.of 3rd int.conf.reactiveplasma。
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