Development of Magnet-Free Uniform Sputtering System for Dielectric Film Deposition
Development of Magnet-Free Uniform Sputtering System for Dielectric Film Deposition
复制标题
用于介质薄膜沉积的无磁均匀溅射系统的开发
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
and Hirotaka Toyoda
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Tomonori Noda;and Hirotaka Toyoda
