Stability of hexafluoroacetylacetone molecules on metallic and oxidized nickel surfaces in atomic-layer-etching processes
Stability of hexafluoroacetylacetone molecules on metallic and oxidized nickel surfaces in atomic-layer-etching processes
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原子层蚀刻过程中金属和氧化镍表面六氟乙酰丙酮分子的稳定性
DOI：
10.1116/1.5127532
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发表时间：
2020
影响因子：
2.9
通讯作者：
Hamaguchi Satoshi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Basher Abdulrahman H.;Krstic Marjan;Takeuchi Takae;Isobe Michiro;Ito Tomoko;Kiuchi Masato;Karahashi Kazuhiro;Wenzel Wolfgang;Hamaguchi Satoshi
