Effect of Al post metallization annealing on Al2O3/GeOx/Ge gate stacks
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复制标题
Al 金属化后退火对 Al2O3/GeOx/Ge 栅叠层的影响
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H. Nakashima
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Nagatomi;Y. Nagaoka;S. Tanaka;K. Yamamoto;D. Wang;H. Nakashima
