S.Komuro et al.: "Time response of 1.54μm emission from highly Er-doped nanocrystalline Si thin films prepared by laser ablation" Applied Physics Letters. 74・3. 377-379 (1999)
S.Komuro et al.: "Time response of 1.54μm emission from highly Er-doped nanocrystalline Si thin films prepared by laser ablation" Applied Physics Letters. 74・3. 377-379 (1999)
复制标题
S. Komuro 等人：“激光烧蚀制备的高掺铒纳米晶硅薄膜的 1.54μm 发射的时间响应”应用物理快报 74・3 (1999)。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
