森 勇藏, 芳井熊安, 安武 潔, 垣内弘章, 大参宏昌, 和田勝男: "大気圧プラズマCVD法によるエピタキシャルSiの低温かつ高速成長(第1報)-エピタキシャルSi成長条件の検討-"精密工学会誌. (印刷中). (2002)

Yuzo Mori、Kumayasu Yoshii、Kiyoshi Yasutake、Hiroaki Kakiuchi、Hiromasa Osami、Katsuo Wada：“利用常压等离子体 CVD 法进行外延 Si 的低温高速生长（第 1 次报告）- 外延 Si 生长条件的检查 -” 精度工程工程师学会杂志（印刷中）（2002 年）。