Si基板上エピタキシャルBaSi2薄膜における欠陥導入による低熱伝導率化
Si基板上エピタキシャルBaSi2薄膜における欠陥導入による低熱伝導率化
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Si 衬底上的外延 BaSi2 薄膜中引入了缺陷，导致热导率降低
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
中村 芳明
中科院分区：
文献类型：
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作者：
石部 貴史;谷内 卓;山下 雄大;佐藤 拓磨;末益 崇;中村 芳明
