High yield silicon deposition under mesoplasma condition for a next generation Siemens technology
High yield silicon deposition under mesoplasma condition for a next generation Siemens technology
复制标题
下一代西门子技术的中质条件下的高产硅沉积
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T.Yoshida
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M.Kambara ;T.Yoshida
